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ShanXiZhongJuJingKe Semiconductor Co., Ltd

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Página inicialLista de ProdutoJanela de safiraDispositivo de janela de safira vestívelAlta dureza do dispositivo de janela de safira vestível

Alta dureza do dispositivo de janela de safira vestível

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Overview

Os substratos de safira pertencem a um dos aspectos mais significativos da aplicação construtiva deste material. Eles são usados ​​para epitaxia de filmes semicondutores, como Si, GaN, AlGaN, e para a fabricação de circuitos integrados.

Os substratos de safira são inertes, funcionam a altas temperaturas e cargas mecânicas e podem ser obtidos em tamanho grande. Portanto, eles são usados ​​mesmo naqueles casos em que os parâmetros da rede não coincidem completamente com os parâmetros das estruturas heteroepitaxiais.

Embora existam muitos substratos considerados materiais em potencial para substituir o substrato de safira, ele ainda é dominado no mercado de substratos (para o crescimento de GaN LED), devido ao seu preço razoável e incompatibilidade relativamente baixa. Zhongju é capaz de processar substratos de acordo com as necessidades do cliente. Atualmente, nossas produções de substrato de safira variam de 2 a 12 polegadas com alta qualidade e orientação precisa.

Tabela 1 Tamanho dos substratos

 

2 inches Substrates

4 inches Substrates

6 inches Substrates

Diameter (mm)

50.9±0.1

100.1±0.1

150.1±0.1

Primary Flat Length (mm)

16±1

31±1

47.5±1

Tabela 2 Especificação de substratos

Material

High purity single crystal sapphire

Surface Orientation

C-plane ± 0.1°

Primary Flat Orientation

A-plane ± 0.5°

Broken edge length

≤3mm

Crack

0

Defect

No inclusiontwinor boundary

Bubble and cloud

Dense bubbles, clouds, and scattered bubble marked and  counted as defects by length

EPD

≤1000 pits/cm2


Grupo de Produto : Janela de safira > Dispositivo de janela de safira vestível

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